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化学镀Co-Ni-P薄膜的组织结构和生长机理研究
引用本文:卑多慧,宣天鹏,黄新民.化学镀Co-Ni-P薄膜的组织结构和生长机理研究[J].材料保护,1999,32(3):1-3.
作者姓名:卑多慧  宣天鹏  黄新民
作者单位:合肥工业大学材料系,230009
摘    要:利用H-800透射电镜和Dmax/rb旋转阳极X-射线衍射仪分析了化学镀Co-Ni-P三元合金薄膜的组织结构,并采用原子力显微镜观察了镀层的表面生长形貌,探讨了其生长机理。结果表明,随镀液中[Co2+]/[Co2+]+[Ni2+]的增大,镀层中Co含量相应增加,Ni和P含量则下降。当Co-Ni-P镀层中P含量小于5.0%时,镀层为晶态,且晶粒随着镀层的增厚而长大。随Ni和P含量的增高,镀层向非晶结构过渡;当P含量大于6.5%时,镀层经很薄的微晶过渡区后很快以非晶结构生长;当镀层含磷量处于5.0%~6.5%过渡区时,初期镀层为120nm左右的微晶,厚度增加时,晶粒尺寸迅速减小。

关 键 词:化学镀  组织结构  生长机理

Structure and Growth Mechanism of Electroless Plated Co-Ni-P Film
Bei Duohui,Xuan Tianpeng,Huang Xinmin.Structure and Growth Mechanism of Electroless Plated Co-Ni-P Film[J].Journal of Materials Protection,1999,32(3):1-3.
Authors:Bei Duohui  Xuan Tianpeng  Huang Xinmin
Abstract:
Keywords:Co-Ni-P
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