| 原子发射光谱法测定锇中21个杂质元素 |
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| 引用本文： | 刘伟,方卫. 原子发射光谱法测定锇中21个杂质元素[J]. 贵金属, 2003, 24(2): 53-56 |
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| 作者姓名： | 刘伟 方卫 |
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| 作者单位： | 贵研铂业股份有限公司,云南,昆明,650221 |
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| 摘 要： | 研究了用原子发射光谱法同时测定锇中21个杂质元素的分析方法。基于锇易与氧反应生成四氧化锇气体挥发的特性，采用加热挥发分离锇基体、碳粉捕集杂质元素、直流电弧激发摄谱和计算机控制测光仪进行自动测定。实验考查了样品处理、测定条件和方法准确度。在660℃下恒温1．5h可使锇基体挥发至＜0．1％，而杂质元素不损失。到定了3个杂质含量不同的校样，测定百分误差均≤25%。方法简便快速，测定结果令人满意。
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| 关 键 词： | 锇 原子发射光谱法 测定 杂质元素 分析化学 |
| 文章编号： | 1004-0676(2003)02-0053-04 |
| 修稿时间： | 2002-07-05 |
The Determination of 21 Impurities in Osmium by AES |
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| Liu Wei,Fang Wei. The Determination of 21 Impurities in Osmium by AES[J]. Precious Metals, 2003, 24(2): 53-56 |
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| Authors: | Liu Wei Fang Wei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | analytic chemistry pure osmium impurity elements atomic emission spectrometry |
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