烧结氮化硅陶瓷的显微结构 |
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引用本文: | 杨海涛,杨国涛.烧结氮化硅陶瓷的显微结构[J].武汉工业大学学报,1997,19(1):1-3,19. |
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作者姓名: | 杨海涛 杨国涛 |
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作者单位: | [1]新材料研究所 [2]中南工业大学 |
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摘 要: | 通过透射电子显微分析和能谱分析,深入仔细地研究了烧强Si3N4-MgO-CeO2陶资的微观结构及其性能的关系,发现当烧结温度为1800℃时,MgO在烧结过程中自动析晶,烧结体的玻璃相只有铈硅酸盐而几乎没有MgO当烧结温度高于1850℃时,容易产生异常长大的二次Si3N4晶粒,从而使烧结Si3N4陶瓷材料的性能下降,并观察了其中的亚晶粒,晶界及位错等微观结构。
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关 键 词: | 显微结构 氮化硅陶瓷 烧结 耐磨性 耐蚀性 |
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