| 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响 |
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| 引用本文： | 潘玉鹏,黄美东,薛利,刘野,许世鹏.负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响[J].真空,2013,50(1). |
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| 作者姓名： | 潘玉鹏 黄美东 薛利 刘野 许世鹏 |
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| 作者单位： | 天津师范大学 物理与电子信息学院,天津,300387 |
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| 基金项目： | 天津师范大学推进计划项目 |
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| 摘 要： | 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响.实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小.
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 TiN薄膜 偏压 沉积速率 |
Effects of negative bias on the structure and deposition rate of TiN films fabricated by arc ion plating |
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| PAN Yu-peng
,
HUANG Mei-dong
,
XUE Li
,
LIU Ye
,
XU Shi-peng.Effects of negative bias on the structure and deposition rate of TiN films fabricated by arc ion plating[J].Vacuum,2013,50(1). |
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| Authors: | PAN Yu-peng HUANG Mei-dong XUE Li LIU Ye XU Shi-peng |
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