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| 第十八讲真空蒸发镀膜 | |
| 引用本文： | 张以忱.第十八讲真空蒸发镀膜[J].真空,2013,50(1). |
| 作者姓名： | 张以忱 |
| 作者单位： | 东北大学,辽宁沈阳,110004 |
| 摘 要： | 1 概述
真空蒸发镀膜(简称蒸镀)是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之汽化,蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术.蒸镀是PVD技术中发展最早,应用较为广泛的镀膜技术,尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面要比蒸发镀优越,但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点,如设备与工艺相对比较简单,可沉积非常纯净的膜层等等,因此,真空蒸发镀膜仍然是当今非常重要的镀膜技术.近年来由于电子轰击蒸发,高频感应蒸发以及激光蒸发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用,使这一技术更趋完善. |
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