| 直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响 |
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| 引用本文： | 黄英,韩晶雪,李建军,常亮,张以忱.直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响[J].真空,2013,50(3). |
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| 作者姓名： | 黄英 韩晶雪 李建军 常亮 张以忱 |
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| 作者单位： | 东北大学机械工程与自动化学院,辽宁沈阳,110004 |
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| 摘 要： | 本文借助Comsol和Matlab软件模拟了直流磁控溅射圆平面靶系统的磁场分布和荷电粒子分布,对不同磁场强度和阴极电压条件下的荷电粒子分布进行了模拟分析,通过比较靶面离子流密度分布曲线发现:当磁场强度增强时,靶面离子流密度分布曲线会变得更加陡窄;当阴极电压变化时,靶面离子流密度分布曲线几乎没有变化.说明靶材的刻蚀形貌会随磁场强度增强而变窄,而阴极电压变化对靶材的刻蚀形貌没有影响.上述结论对直流磁控溅射工艺参数优化具有一定的理论指导意义.
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| 关 键 词： | 直流磁控溅射 刻蚀形貌 模拟 圆平面靶 磁场强度 阴极电压 |
Influence of magnetic field intensity and cathode voltage on the etching morphology of circular planar target in DC magnetron sputtering |
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| HUANG Ying
,
HAN Jing-xue
,
LI Jian-jun
,
CHANG Liang
,
ZHANG Yi-chen.Influence of magnetic field intensity and cathode voltage on the etching morphology of circular planar target in DC magnetron sputtering[J].Vacuum,2013,50(3). |
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| Authors: | HUANG Ying HAN Jing-xue LI Jian-jun CHANG Liang ZHANG Yi-chen |
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