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集成电路测试处理机
引用本文:
河村幸一 ,邹永达.集成电路测试处理机[J].微电子学,1984(3).
作者姓名:
河村幸一
邹永达
摘 要:
最近,集成电路的微细加工技术,已经能够形成1μ的图形,集成度从LSI推进到VLSI。从而64KDRAM、256KDRAM等集成度大的器件的大量生产如今已成为现实。集成度有以2倍/年的比例增加的倾向。可以预测,高集成化将会更加向前迈进。随着集成度的增加,器件高速化;随着位数和门数的增加,呈现出了多引线化的倾向。
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