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微电子工艺中的清洗技术
引用本文:刘玉岭,李薇薇,檀柏梅. 微电子工艺中的清洗技术[J]. 洗净技术, 2003, 31(5): 15-19
作者姓名:刘玉岭  李薇薇  檀柏梅
作者单位:河北工业大学微电子研究所,天津,300130
摘    要:本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性,详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向。

关 键 词:微电子  清洗  表面活性剂  兆声清洗

Cleaning Technology in Microelectronics
Liu Yuling Li Weiwei etc.. Cleaning Technology in Microelectronics[J]. , 2003, 31(5): 15-19
Authors:Liu Yuling Li Weiwei etc.
Affiliation:Liu Yuling Li Weiwei etc.
Abstract:In this article the importance of cleaning in the process of integrate circuit is pointed. Several kinds of widely used cleaning methods including their cleaning principle, characteristic, existent issue and developing tendency are introduced.
Keywords:Microelectronics  Cleaning  Surfactant  Megasonic cleaning
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