块体纳米晶工业纯铁在0．4mol／LHCl溶液中的电化学腐蚀行为

借助动电位极化和电化学阻抗谱（EIS）测量,研究块体纳米晶工业纯铁（BNII）和粗晶工业纯铁（CPII）在室温0．4mol／LHCl溶液中的电化学腐蚀行为;用扫描电子显微镜（SEM）观察腐蚀后的表面形貌．结果表明,与CPII相比,BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43mV,自腐蚀电流Icorr由68．37pA·cm...