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DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
等离子轰击渗金属
作者姓名:
毛磊 郝元立 马彦芬 李如栋
摘 要:
本文介绍了两种离子轰击渗金属工艺——双层辉光离子渗金属和离子轰击膏剂渗金属的基本原理、研究现状和今后的发展前景.
关 键 词:
离子渗金属 双层辉光 金属工艺 离子轰击 等离子 膏剂 基本原理
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