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掺锂非晶硅薄膜的电学性质
引用本文:宋祥福,黄家明.掺锂非晶硅薄膜的电学性质[J].半导体技术,1989(4):52-54.
作者姓名:宋祥福  黄家明
作者单位:复旦大学材料科学研究所 (宗祥福,黄家明),复旦大学材料科学研究所(汪荣昌)
摘    要:用硅烷的辉光放电分解伴随着锂蒸发来制备掺锂的非晶硅薄膜.测量了薄膜的直流电导率与温度以及与所加的测试电压的关系.发现在温度范围为350~500K和高场强(高于10~3V/cm)情况下掺锂薄膜存在离子电导现象.

关 键 词:掺锂  非晶硅  薄膜  电学性质
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