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Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析
引用本文:刘黎明,杨培志,黄宗坦.Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析[J].新型炭材料,2007,22(4):379-382.
作者姓名:刘黎明  杨培志  黄宗坦
作者单位:昆明物理研究所,云南,昆明,650223
摘    要:用X射线光电子能谱(XPS)研究了3.0keV Ar离子轰击高定向裂解石墨(HOPG)引起的表面结构的变化。通过对C1sC KLL及C2s谱峰形状的定性和定量分析,表明Ar离子轰击将破坏共价π键并导致表面局域sp^2杂化C键向sp^3杂化C键转化。sp^3/sp^2之比依赖于离子轰击时间。

关 键 词:表面分析  Ar离子轰击  高定向裂解石墨  X射线光电子能谱
文章编号:1007-8827(2007)04-0379-04
收稿时间:2007-05-13
修稿时间:2007-12-03

X-ray photoelectron spectroscopy analysis of high oriented pyrolytic graphite surface structural changes induced by Ar ion bombardment
LIU Li-ming,YANG Pei-zhi,HUANG Zong-tan.X-ray photoelectron spectroscopy analysis of high oriented pyrolytic graphite surface structural changes induced by Ar ion bombardment[J].New Carbon Materials,2007,22(4):379-382.
Authors:LIU Li-ming  YANG Pei-zhi  HUANG Zong-tan
Abstract:
Keywords:Surface analysis  Ar ion bombardment  High oriented pyrolytic graphite  X-ray photoelectron spectroscopy
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