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| 上海新进1.5μm/15V双极集成电路生产工艺技术开发 | |
| 引用本文： | 上海新进半导体制造有限公司.上海新进1.5μm/15V双极集成电路生产工艺技术开发[J].半导体技术,2003,28(4). |
| 作者姓名： | 上海新进半导体制造有限公司 |
| 作者单位： | 上海新进半导体制造有限公司,上海 200233 |
| 摘 要： | 1介绍上海新进半导体制造有限公司为双极集成电路代工公司(foundry),成立两年多来,已成功的生产出由20多个美、日、台湾及中国内地客户的60多产品,用它们制成的集成电路适合与需要耐高压,大电路驱动应用。 随着双极集成电路的发展,客户经常需要一种集成元器件密度高、低工作电源电压、低功耗且npn晶体管特征频率高的高性能集成电路制造技术。应市场需求,上海新进自主开发了1.5mm/12V双极集成电路生产工艺。2工艺制造技术该工艺采用了全离子注入,浅结与平坦化等一系列新技术。此工艺技术主要特点如下:(1)光刻线条最小宽度:1.5mm;接触孔典型… |
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