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硅基SiO_2光波导
引用本文:徐永青,梁春广,杨拥军,赵彤. 硅基SiO_2光波导[J]. 半导体学报, 2001, 22(12): 1546-1550
作者姓名:徐永青  梁春广  杨拥军  赵彤
作者单位:信息产业部电子第十三研究所,石家庄,050051
基金项目:国家重点实验室基金;;
摘    要:在硅基上通过氢氧焰淀积的 Si O2 ,厚度达到了 2 0 μm;通过掺 Ge增加芯层的折射率 ,折射率比小于 1% ,并可调 ;用反应离子刻蚀工艺对波导的芯层进行刻蚀 ,刻蚀深度为 6 μm,刻蚀深宽比大于 10 ;波导传输损耗小于0 .6 d B/ cm(λ=1.5 5 μm) ,并对波导的损耗机理和测试进行了分析与研究 .另外 ,为实现光纤与波导的耦合 ,结合微电子机械系统技术 ,在波导基片上制作了光纤对准 V形槽

关 键 词:二氧化硅   光波导   氢氧焰淀积   微电子机械系统
文章编号:0253-4177(2001)12-1546-05
修稿时间:2000-12-12

Silica-on-Silicon Optical Waveguides
XU Yong qing,LIANG Chun guang,YANG Yong jun and ZHAO Tong. Silica-on-Silicon Optical Waveguides[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2001, 22(12): 1546-1550
Authors:XU Yong qing  LIANG Chun guang  YANG Yong jun  ZHAO Tong
Abstract:
Keywords:silica  optical waveguides  FHD  MEMS
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