溅射镀成膜速率的研究

真空溅射镀与蒸发镀相比,膜层较牢固、致密,但成膜速率较低。如何提高成膜速率,已成为改进溅射镀工艺的主要方向。由于溅射镀的机理比较复杂,难以确定的因素较多,因而成膜速率的理论估算有困难。本工作详细研究了靶材的迁移过程,得到成膜速率的计算公式,与实验结果符合。该公式所反映的参量关系,有可能对提高成膜速率提供较清晰的途径。