| Ni80 Fe20薄膜的参数对其各向异性电阻率的影响 |
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| 引用本文： | 王晓路,李佳,陈冷.Ni80 Fe20薄膜的参数对其各向异性电阻率的影响[J].信息记录材料,2009,10(1). |
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| 作者姓名： | 王晓路 李佳 陈冷 |
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| 作者单位： | 北京科技大学,应用科学学院,土木与环境工程学院,北京,100083 |
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| 摘 要： | 用C6型电子束真空镀膜仪,在不同沉积束流、不同基片温度下制备Ni80 Fe20薄膜,并对室温沉积的薄膜样品在不同温度下进行真空退火处理,用来研究不同束流对薄膜厚度的影响和不同束流对薄膜各向异性电阻率的影响以及不同退火温度对AMR的影响。实验结果表明在高真空,电子束蒸发制备的Ni80Fe20在恒定温度下薄膜的厚度是随着束流的增大线性增加的,且在60~100mA的区间内束流越大膜的AMR越大。恒温下,沉积速流速率与束流大小是成正比关系的。退火可以有效增加薄膜的各向异性电阻率,平均每提高100℃各向异性电阻率增加12.5%。而在突变退火区,AMR并不是完全随退火温度线形增加的,而是呈现出一定的波动性,目前推测影响薄膜AMR的因素是晶体形状的各向异性、薄膜的内禀力和磁晶各向异性的共同作用结果。
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| 关 键 词： | Ni80 Fe20薄膜 电子束蒸发 各向异性电阻率AMR 束流 退火 |
Impact of the Ni80 Fe20 film parameter over aeolotropism resistivity |
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| WANG Xiao-lu,LI jia.Impact of the Ni80 Fe20 film parameter over aeolotropism resistivity[J].Information Recording Materials,2009,10(1). |
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| Authors: | WANG Xiao-lu LI jia |
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| Affiliation: | Applied science School;Civil& Enviroment Engineering School;University of Science and Technology of Beijing;Beijing 100083;China |
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| Abstract: | The Type C6 instrument,which works under vacuum,has been used to prepare Ni80 Fe20 film under different temperature and different deposit stream,and anneal the film sample deposited under the room temperature.The research has been used to study an impact of diversity deposition stream over film thickness,an impact of diversity deposition stream over film aeolotropism resistivity,and an impact of anneal temperature over AMR.The experiment conclusion is that: with enhancing deposition stream,the thickness of ... |
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| Keywords: | Ni80 Fe20 film electronic beam evaporation aeolotropism resistivity AMR deposition stream anneal |
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