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PECVD喷淋板上微通道结构对射流均匀性的影响性分析
引用本文:刘万锁,岳向吉,蔺增.PECVD喷淋板上微通道结构对射流均匀性的影响性分析[J].中国表面工程,2023,36(5):222-233.
作者姓名:刘万锁  岳向吉  蔺增
作者单位:东北大学机械工程与自动化学院 沈阳 110819;东北大学机械工程与自动化学院 沈阳 110819 ;沈阳市真空镀膜工程技术研究中心 沈阳 110819
摘    要:喷淋板微通道结构对等离子体增强化学气相沉积镀膜工艺成膜均匀性具有重要影响,目前缺少对不同微通道差异性的研究。通过采用滑移边界修正的连续流计算方法,获得克努森数为0.009~0.01的微通道流动特性结果,计算结果与其他微通道试验与计算结果具有一致性。结果表明,等径型与收缩型微通道几何尺寸对均匀性影响较小,出口射流所形成的涡流会降低均匀性,扩张型微通道提高出口扩散性,其射流均匀性明显优于前两者。通过提出均匀性量化方法,研究等径型、收缩型和扩张型三种具有代表性的微通道结构,进一步完善了喷淋板及稀薄环境微通道研究的不足。

关 键 词:微通道  射流均匀性  均匀性量化  扩张腔  等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
收稿时间:2022/12/2 0:00:00
修稿时间:2022/12/2 0:00:00

Analysis of Microchannel Structure on Jet Uniformity of PECVD Showerhead
LIU Wansuo,YUE Xiangji,LIN Zeng.Analysis of Microchannel Structure on Jet Uniformity of PECVD Showerhead[J].China Surface Engineering,2023,36(5):222-233.
Authors:LIU Wansuo  YUE Xiangji  LIN Zeng
Abstract:
Keywords:
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