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基于局部保持嵌入–K近邻比率密度的半导体 蚀刻过程故障诊断策略
引用本文:张成,郑百顺,郭青秀,冯立伟,李元.基于局部保持嵌入–K近邻比率密度的半导体 蚀刻过程故障诊断策略[J].控制理论与应用,2020,37(6):1342-1348.
作者姓名:张成  郑百顺  郭青秀  冯立伟  李元
作者单位:沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心,辽宁沈阳110142;沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心,辽宁沈阳110142;沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心,辽宁沈阳110142;沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心,辽宁沈阳110142;沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心,辽宁沈阳110142
基金项目:辽宁省教育厅项目;辽宁省自然科学基金;国家自然科学基金
摘    要:针对多模态间歇过程存在数据维度高且方差差异较大的特征,提出一种基于局部保持嵌入–K近邻比率密度(NPE–KRD)规则的故障检测方法.首先,利用局部保持嵌入(NPE)方法将原始的高维数据投影到低维空间;其次,在低维空间通过计算样本的密度及其前K近邻密度的均值来建立K近邻比率密度(KRD);最后,根据核密度估计法确定统计量控制限并进行故障诊断. NPE方法既能够在低维空间保持数据局部近邻结构,又能够降低故障检测过程的计算复杂度.通过引入比率密度, NPE–KRD可以降低多模态方差结构差异对故障检测的影响,提高过程故障检测率.通过数值例子和半导体工业过程的仿真实验,并与主元分析、K近邻、局部保持嵌入等方法进行比较,验证了本文方法的有效性.

关 键 词:局部保持嵌入  K近邻比率密度  半导体蚀刻过程  故障诊断  多工况
收稿时间:2019/4/19 0:00:00
修稿时间:2019/11/29 0:00:00
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