| 氮化硅减反射膜制备工艺对组织结构及折射率影响的研究 |
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| 引用本文： | 高越,王宙,付传起,杨梓健,项永矿.氮化硅减反射膜制备工艺对组织结构及折射率影响的研究[J].真空科学与技术学报,2019(6):455-459. |
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| 作者姓名： | 高越 王宙 付传起 杨梓健 项永矿 |
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| 作者单位： | 大连大学物理学院;大连大学机械工程学院 |
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| 摘 要： | 太阳能电池是一种清洁能源,近年来发展迅猛。减反射膜能大幅减少太阳能电池对光线的反射,从而提高电池光电转化率。为优化减反射效果,减反射膜设计多样,包括单层膜、双层膜、三层膜和多层膜,膜层不同对薄膜材料的折射率要求不同。氮化硅薄膜是一种优秀的硅基太阳能减反射膜,其折射率在1.78-2.5之间,调控范围广。本文采用脉冲激光沉积法制备氮化硅减反射膜,研究不同工艺参数对硅片上沉积的氮化硅薄膜性能的影响。
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 减反射 氮化硅薄膜 太阳能电池 |
Synthesis and Characterization ofSilicon Nitride Antireflective Film by Pulsed Laser Deposition |
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| Gao Yue,Wang Zhou,Fu Chuanqi,Yang Zijian,Xiang Yongkuang.Synthesis and Characterization ofSilicon Nitride Antireflective Film by Pulsed Laser Deposition[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2019(6):455-459. |
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| Authors: | Gao Yue Wang Zhou Fu Chuanqi Yang Zijian Xiang Yongkuang |
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| Affiliation: | (Department of Physics,Dalian University,Dalian 116622,China;Department of Mechanical Engineering,Dalian University,Dalian 116622,China) |
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| Abstract: | Gao Yue;Wang Zhou;Fu Chuanqi;Yang Zijian;Xiang Yongkuang(Department of Physics,Dalian University,Dalian 116622,China;Department of Mechanical Engineering,Dalian University,Dalian 116622,China) |
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| Keywords: | Pulsed Laser Deposition Anti-reflection Silicon nitride film Splar battery |
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