| 制备工艺条件对HfO_2薄膜结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘伟,苏小平,张树玉,郝鹏,王宏斌,刘嘉禾. 制备工艺条件对HfO_2薄膜结构和性能的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2008, 28(2): 159-163 |
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| 作者姓名： | 刘伟 苏小平 张树玉 郝鹏 王宏斌 刘嘉禾 |
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| 作者单位： | 北京国晶辉红外光学科技有限公司北京有色金属研究总院,北京,100088 |
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| 摘 要： | 用电子束蒸发、离子束辅助、反应磁控溅射三种方法在石英衬底上制备了氧化铪薄膜.利用掠角X射线衍射和扫描电镜分析了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的晶体结构和显微结构,用紫外.可见分光光度计、椭偏仪、和纳米硬度计分别测试了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的可见透射光谱、光学常数和硬度.结果表明薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能和硬度等都与制备工艺有着密切的关系,电子束蒸发制备的薄膜为非晶相,而离子束辅助和反应磁控溅射制备的薄膜为多晶相,三种方法制备的氧化铪薄膜都为柱状结构,电子束蒸发和离子束辅助制备的薄膜色散严重,但反应磁控溅射制备的薄膜吸收较大,反应磁控溅射制备薄膜的硬度远大于电子束蒸发和离子束辅助制备薄膜的硬度.并分别用薄膜成核长大热力学原理和薄膜结构区域模型解释了不同工艺条件下氧化铪薄膜晶体结构和显微结构不同的原因.
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| 关 键 词： | 氧化铪薄膜 电子束蒸发 离子束辅助 反应磁控溅射 光学性能 工艺条件 膜结构和性能 影响 Thin Films Characterization 解释 域模型 结构区 力学原理 成核长大 薄膜吸收 严重 色散 柱状结构 法制 非晶相 溅射制备 磁控 反应 蒸发制备 |
| 文章编号： | 1672-7126(2008)02-159-05 |
| 修稿时间： | 2007-06-13 |
Growth and Characterization of HfO2 Thin Films |
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| Liu Wei,Su Xiaoping,Zhang Shuyu,Hao Peng,Wang Hongbin,Liu Jiahe. Growth and Characterization of HfO2 Thin Films[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2008, 28(2): 159-163 |
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| Authors: | Liu Wei Su Xiaoping Zhang Shuyu Hao Peng Wang Hongbin Liu Jiahe |
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