| 掩模台水平向的二维衍射平面光栅测量模型验证 |
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| 引用本文： | 郝春晓,张文涛,王献英,黄逊志. 掩模台水平向的二维衍射平面光栅测量模型验证[J]. 仪器仪表用户, 2019, 0(6): 49-51 |
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| 作者姓名： | 郝春晓 张文涛 王献英 黄逊志 |
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| 作者单位： | 桂林电子科技大学电子工程与自动化学院;上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
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| 基金项目： | 国家科技重大专项(2017ZX02101007-003);国家自然科学基金(61565004) |
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| 摘 要： | 为了降低掩模台位置测量的位置误差,首先阐述了二维衍射平面光栅尺在掩模台上的布局与信号采集模块;然后运用两个二维衍射平面光栅尺建立掩模台位置测量模型;最后以双频激光干涉仪作为参考测量系统,对比两个测量系统的不确定度。实验证明:二维衍射平面光栅尺测量系统的不确定度比较低,可以有效地实现掩模台的三自由度位置超高精密测量。
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| 关 键 词： | 平面光栅尺 模型 自由度 误差 |
Validation of a Two-Dimensional Diffraction Planar Grating Measuring Model in the Horizontal Direction of the Reticle Stage |
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| Hao Chunxiao,Zhang Wentao,Wang Xianying,Huang Xunzhi. Validation of a Two-Dimensional Diffraction Planar Grating Measuring Model in the Horizontal Direction of the Reticle Stage[J]. Electronic Instrumentation Customer, 2019, 0(6): 49-51 |
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| Authors: | Hao Chunxiao Zhang Wentao Wang Xianying Huang Xunzhi |
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| Affiliation: | (School of Electrical Engineering and Automation, Guilin University of Electronics Technology,Guangxi,Guilin,541004,China;Shanghai Mirco Electronics Equipment(Group) CO., LTD., Shanghai,201203, China) |
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| Abstract: | Hao Chunxiao;Zhang Wentao;Wang Xianying;Huang Xunzhi(School of Electrical Engineering and Automation, Guilin University of Electronics Technology,Guangxi,Guilin,541004,China;Shanghai Mirco Electronics Equipment(Group) CO., LTD., Shanghai,201203, China) |
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| Keywords: | planar grating model DOF error |
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