| 超精密掩模台位移测量系统热漂移研究 |
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| 引用本文： | 云攀攀,张文涛,王献英.超精密掩模台位移测量系统热漂移研究[J].仪器仪表用户,2019(7):11-14. |
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| 作者姓名： | 云攀攀 张文涛 王献英 |
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| 作者单位： | 桂林电子科技大学电子工程与自动化学院;上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
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| 基金项目： | 国家科技重大专项(02专项)子课题(No.2017ZX02101007-003);国家自然科学基金(61565004) |
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| 摘 要： | 针对28nm浸没式扫描光刻机掩模台的光栅干涉仪位移测量系统,开展了系统热漂移研究,并进行了热漂移测试实验与结果分析。该位移测量系统采用外差对称式四细分的光路设计以及栅距为1μm的二维光栅,配合2048倍电子细分的相位计数卡,其系统分辨力达到了0.12nm。热漂移测试结果显示:该系统的热漂移X向为17.86nm/K,Y向为41.43nm/K。在光刻机掩模台的实际测量环境中,测量环境的温度波动稳定在5mK以内,此时系统的热漂移X向可以控制在0.09nm以内,Y向可以控制在0.21nm以内。实验数据表明系统的热漂移误差小于1nm,满足掩模台亚纳米位移测量精度需求。
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| 关 键 词： | 光栅干涉仪 位移测量 热漂移 掩模台 |
Research on Thermal Drift of Ultra-Precision Reticle Stage Displacement Measurement System |
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| Yun Panpan,Zhang Wentao,Wang Xianying.Research on Thermal Drift of Ultra-Precision Reticle Stage Displacement Measurement System[J].Electronic Instrumentation Customer,2019(7):11-14. |
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| Authors: | Yun Panpan Zhang Wentao Wang Xianying |
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| Affiliation: | (School of Electronic and Automation,Guilin University of Electronic Technology,Guangxi,Guilin,541004,China;Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co.,LTD.,Shanghai,201203,China) |
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| Abstract: | Yun Panpan;Zhang Wentao;Wang Xianying(School of Electronic and Automation,Guilin University of Electronic Technology,Guangxi,Guilin,541004,China;Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co.,LTD.,Shanghai,201203,China) |
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| Keywords: | grating interferometer displacement measurement thermal drift reticle stage |
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