激光退火产生磁泡

美国IBM公司沃森研究中心的Hodgson小组,利用激光退火工艺,在掺镓钇铁柘榴石薄膜中产生了磁泡。这种激光辐射产生的磁泡,其磁畴直径仅为3微米,比起其它方法产生的,要更小更稳定。激光退火,能用来修复半导体器件中离子注入所引起的晶格损伤。目前,各国正在研究用来制造磁泡器件。众所周知,磁泡是计算机中存储信息的器件。相对于现在使用中的半导体存储器来说,磁泡存储器具有低成本和不费功率的优点。