| 双靶溅射法制作SmS光学薄膜 |
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| 引用本文： | 黄剑锋 曹丽云. 双靶溅射法制作SmS光学薄膜[J]. 稀有金属材料与工程, 2004, 33(3): 333-336 |
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| 作者姓名： | 黄剑锋 曹丽云 |
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| 作者单位： | 陕西科技大学,陕西,咸阳,712081 |
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| 摘 要： | 以Sm和Sm2S3为靶材，采用双靶子溅射系统，于单晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜，并采用XRD，AFM和RBS及光学性能测定等测试手段对薄膜进行了分析测试。结果表明：基板温度低于200℃的情况下；或者在基板温度为400℃，薄膜组成中Sm过量的条件下均可以直接获得在常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜。S-SmS和M-SmS微晶薄膜表现出明显不同的光学特性。
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| 关 键 词： | SmS薄膜 双靶溅射法 光学薄膜 光学性能 S-SmS微晶薄膜 M-SmS微晶薄膜 |
| 文章编号： | 1002-185X(2004)03-0333-04 |
| 修稿时间： | 2002-08-20 |
Deposition of SmS Optical Thin Films by Double-Target Sputtering |
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| Huang Jianfeng,Cao Liyun. Deposition of SmS Optical Thin Films by Double-Target Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2004, 33(3): 333-336 |
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| Authors: | Huang Jianfeng Cao Liyun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SmS thin film double-target sputtering optical thin film |
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