辉弧共溅射Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响 |
| |
引用本文: | 林晶,钱锋,孙智慧,傅鹏飞.辉弧共溅射Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响[J].真空科学与技术学报,2014(11):1173-1177. |
| |
作者姓名: | 林晶 钱锋 孙智慧 傅鹏飞 |
| |
作者单位: | 哈尔滨商业大学包装科学与印刷技术工程实验室;深圳市天星达真空镀膜设备有限公司 |
| |
摘 要: | 采用辉光弧光协同共放电混合镀方法在A3碳钢基体上沉积氮化钛薄膜,通过改变Ar/N2流量比,研究Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响。X射线衍射谱图表明制备的TiN有明显的(111)晶面择优取向;Ti2p的X射线光电子谱谱峰拟合分析表明Ti2p1/2峰和Ti2p3/2峰均有双峰出现,可知氮化物中的Ti存在不同的化学状态,整个膜层是由TiN,TiO2,TiNxOy化合物组成的复合体系,Ar/N2流量比影响各成分的含量。对比硬度的变化和组成成分之间的关系发现,膜层硬度随着含TiN量的增多而增大,当Ar/N2流量比为3∶1时,硬度最大。
|
关 键 词: | 辉弧共溅射 Ar/N2流量比 TiN薄膜 硬度 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|