| Cr3+:LiCaAlF6晶体提拉法生长的研究 |
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| 引用本文： | 张尚安,魏世道,韩奇阳,陶德节,冯朝鲜.Cr3+:LiCaAlF6晶体提拉法生长的研究[J].硅酸盐学报,1998,26(2):243-248. |
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| 作者姓名： | 张尚安 魏世道 韩奇阳 陶德节 冯朝鲜 |
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| 作者单位： | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目，国家科技攻关项目，69477017，863-715-001-0020，， |
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| 摘 要： | 在国内首次报道熔体提拉法生长Ｃｒ＾３＋：ＬｉＣａＡｌＦ６晶体的研究。晶体生长工艺中不用ＨＦ流动气氛的铂金炉膛。研究出质量较好的尺寸达Φ（２０－２５）ｍｍ×（９０－１２０）ｍｍ的晶体。测定晶体对８０９ｎｍ红外波段的吸收关系数μ为１０＾－２量级，晶体中无ＯＨ＾－，对于熔体的富Ｌｉ组成，ＣｒＦ３对氧化作用的敏感以若干晶体缺陷生长工艺的关系等方面进行了讨论。
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| 关 键 词： | 掺铬 氟化铝钙锂 提拉法 晶体生长 缺陷 激光 |
CRYSTAL GROWTH OF Cr3+:LiCaAlF6 BY CZOCHRALSKI TECHNIQUE |
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| Zhang Shangan,Wei Shidao,Han Qiyang,Tao Dejie,Feng Chaoxian.CRYSTAL GROWTH OF Cr3+:LiCaAlF6 BY CZOCHRALSKI TECHNIQUE[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,1998,26(2):243-248. |
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| Authors: | Zhang Shangan Wei Shidao Han Qiyang Tao Dejie Feng Chaoxian |
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