CTAB和硫脲对Ni-P镀层耐蚀性能的影响研究

研究了CTAB和硫脲对Ni(P)层耐腐蚀性能的影响。结果表明，用硫脲制备的Ni(P)试样在1 nm深度处的平均O含量为27.74%,大于腐蚀测试Ni(P)层深度1 nm处的平均O含量(14.43at%),说明在Ni(P)镀液中添加硫脲可使Ni(P)镀层的耐蚀性大大降低。在Ni(P)镀液中加入CTAB后，Ni(P)层平均P含量增加，高P含量进一步提高了Ni(P)层的耐蚀性。此外，在镀液中添加CTAB对Ni(P)层耐蚀性的积极作用会抑制镀液中添加硫脲的消极作用。