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吸水剖面测井沾控制与校正处理
引用本文:何茂东,覃远庆.吸水剖面测井沾控制与校正处理[J].测井技术,2000,24(2):113-117.
作者姓名:何茂东  覃远庆
作者单位:广西田东石油测录井分公司
摘    要:对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析 ,提出降低示踪剂的比强度和注入“冷球”两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺。从理论上分析了如何对沾污进行校正 ,建立了沾污校正的解释模型。实际结果表明 ,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度。

关 键 词:吸水剖面  污染防治  示踪剂  测井解释  校正处理

Contamination Control of Injection Profile Log and Its Correction.
He Maodong,Qin Yuanqing. WLT,.Contamination Control of Injection Profile Log and Its Correction.[J].Well Logging Technology,2000,24(2):113-117.
Authors:He Maodong  Qin Yuanqing WLT  
Abstract:Analyses the origin of contamination in injection profile logging; Puts forward a new technique to control the contamination by reducing specific strength of 131BaGTP microspherical tracer and injecting an amount of nonradioactive tracer; Discuses how to correct the contamination and sets up the injection profile interpretation model of contamination correction. Application result proves that such a correction can improve interpretation accuracy of injection profile log.
Keywords:water  injection  profile    contamination  control    tracer    interpretation  model  
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