Si含量对NbN/TiSiN纳米多层膜微观结构和韧性的影响 |
| |
作者姓名: | 蔡莹芸 王静静 康开 岳建岭 李伟 马迅 |
| |
作者单位: | 1. 上海理工大学材料与化学学院;2. 浙江浙能电力股份有限公司;3. 中南大学粉末冶金研究院 |
| |
基金项目: | 国家自然科学基金(51971148,51471110); |
| |
摘 要: | 采用磁控溅射工艺在硅基底上交替沉积NbN和TiSiN纳米层,通过改变靶材的Si含量,制备出一系列NbN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对NbN/TiSiN纳米多层膜微观结构和力学性能的影响。结果表明:随着Si含量的增加,NbN相的结晶程度先增加后降低,薄膜的硬度、弹性模量和韧性也呈现出先增加后降低的趋势,当Si∶Ti=3∶22时,NbN/TiSiN纳米多层膜的硬度、弹性模量和韧性最高,分别为24.8 GPa、280.2 GPa和1.89 MPa·m1/2。结构表征表明:当Si∶Ti=3∶22时,NbN/TiSiN纳米多层膜的柱状晶生长状况最好,TiSiN层在NbN层的模板作用下转变为面心立方结构,并与NbN层呈共格外延生长。
|
关 键 词: | NbN/TiSiN纳米多层膜 磁控溅射 微观结构 共格外延 韧性 |
|