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真空退火以LiF和CaF2薄膜结晶性能的影响
作者姓名:万媛 李德杰
作者单位:清华大学电子工程系,北京100084
摘    要:研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的LiF和CaF2薄膜的结晶性能的影响。X射线衍射分析结果表明,在420℃温度下,随着退火时间的增长,LiF薄膜的结晶状况明显改善;在460℃温度下,随着退火时间的增长,CaF2薄膜的结晶状况越来越好。

关 键 词:真空退火 氟化锂 氟化钙 场发射显示器 LiF薄膜 CaF2薄膜 结晶性能 X射线衍射 电子传输层
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