真空退火以LiF和CaF2薄膜结晶性能的影响 |
| |
作者姓名: | 万媛 李德杰 |
| |
作者单位: | 清华大学电子工程系,北京100084 |
| |
摘 要: | 研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的LiF和CaF2薄膜的结晶性能的影响。X射线衍射分析结果表明,在420℃温度下,随着退火时间的增长,LiF薄膜的结晶状况明显改善;在460℃温度下,随着退火时间的增长,CaF2薄膜的结晶状况越来越好。
|
关 键 词: | 真空退火 氟化锂 氟化钙 场发射显示器 LiF薄膜 CaF2薄膜 结晶性能 X射线衍射 电子传输层 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|