首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磁控溅射TiN/Si3N4纳米复合膜的制备及其环境摩擦学特性
引用本文:杨友志,郑晓华.磁控溅射TiN/Si3N4纳米复合膜的制备及其环境摩擦学特性[J].材料科学与工程学报,2008,26(3).
作者姓名:杨友志  郑晓华
作者单位:1. 浙江大学材料科学与工程系,浙江杭州,310027
2. 浙江大学材料科学与工程系,浙江杭州,310027;浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室,浙江杭州,310032
摘    要:在高速钢基体上直流磁控溅射制备TiN/Si3N4纳米复合薄膜.用EDS、XRD、SEM、TEM、HRTEM等对薄膜的组织结构和形貌进行了表征.采用划痕仪和球-盘式摩擦仪分别测试了薄膜的结合力和在大气及真空中的摩擦学性能.结果表明,TiN/Si3N4复合薄膜由纳米TiN相镶嵌于非晶态Si3N4基体内构成.薄膜中Si含量的增加可抑制纳米TiN相的长大,降低薄膜摩擦系数,薄膜的摩擦学性能得到改善.溅射气压升高导致薄膜呈柱状结构,结合力下降,摩擦系数和磨损率上升.0.2Pa下制备含12.9at.%Si的TiN/Si3N4复合薄膜在潮湿空气和真空中均具有良好的摩擦学性能.

关 键 词:TiN  纳米复合膜  磁控溅射  摩擦与磨损  磁控溅射  纳米复合  膜的制备  环境  摩擦学特性  Tribological  Performance  Preparation  Environments  Different  Magnetron  Sputtering  湿空气  磨损率  柱状结构  高导  溅射气压  改善  摩擦系数  含量  构成  基体

Preparation and Tribological Performance of the TiN/Si3N4 Composite Films Deposited by Magnetron Sputtering at Different Environments
YANG You-zhi,ZHENG Xiao-hua.Preparation and Tribological Performance of the TiN/Si3N4 Composite Films Deposited by Magnetron Sputtering at Different Environments[J].Journal of Materials Science and Engineering,2008,26(3).
Authors:YANG You-zhi  ZHENG Xiao-hua
Abstract:
Keywords:
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号