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BaTiO_3薄膜的磁控溅射生长及特性研究
引用本文:吴彩云,季小兵,范叔平,周咏东,褚君浩,王康杰.BaTiO_3薄膜的磁控溅射生长及特性研究[J].固体电子学研究与进展,2001,21(3):361-365.
作者姓名:吴彩云  季小兵  范叔平  周咏东  褚君浩  王康杰
作者单位:1. 苏州大学物理系
2. 中国科学院
3. 苏州新业电子有限公司
基金项目:本文得到国家高技术航天领域青年基金(编号:863-2.00.4
摘    要:用射频磁控溅射方法制备了 Ba Ti O3 (BT)薄膜。用扫描电镜 (SEM)观察了 Ba Ti O3 薄膜表面形貌、截面结构。电子探针分析表明样品具有良好的组份均匀性。介电特性研究表明材料同样具有较好的微结构

关 键 词:BaTiO3薄膜  射频磁控溅射  扫描电镜  介电特性
文章编号:1000-3819(2001)03-361-05
修稿时间:2000年1月3日

Sputtering Growth of BaTiO3 Thin Films and the Films Property Studies
WU Caiyun,JI Xiaobing,FAN Shuping,ZHOU Yongdong.Sputtering Growth of BaTiO3 Thin Films and the Films Property Studies[J].Research & Progress of Solid State Electronics,2001,21(3):361-365.
Authors:WU Caiyun  JI Xiaobing  FAN Shuping  ZHOU Yongdong
Abstract:BaTiO 3 thin films have been prepared by magnetic RC sputtering deposi tion technique. The SEM images and the spectrums showed that the prepared BaTiO 3 films have good microstructure and even organization. Similar result could be drawn by measuring the films dielectric property.
Keywords:BaTiO  3 thin films  magnetron sputtering  SEM  dielectric property
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