| 单槽脉冲电沉积制备铜/镍纳米多层膜及其性能 |
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| 引用本文： | 朱宏喜,顾超,任凤章. 单槽脉冲电沉积制备铜/镍纳米多层膜及其性能[J]. 电镀与涂饰, 2012, 31(10): 7-10. DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2012.10.002 |
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| 作者姓名： | 朱宏喜 顾超 任凤章 |
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| 作者单位： | 1.河南科技大学材料科学与工程学院,河南洛阳471003;河南省有色金属材料科学与加工技术重点实验室,河南洛阳471003;2.河南科技大学材料科学与工程学院,河南洛阳,471003 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,河南省科技创新人才计划,河南省高校科技创新人才支持计划,河南省基础与前沿技术研究计划,河南科技大学博士科研启动基金,河南省高校科技创新团队支持计划 |
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| 摘 要： | 用单槽脉冲电沉积法在含CuSO4、NiSO4和Na3C6H5O7的镀液中制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜,对其进行了截面形貌观察及显微硬度测量.结果表明,制备的多层膜平整,层间界清晰.其显微硬度在调制波长为100 nm时出现峰值.当调制波长大于100 nm时,多层膜显微硬度的变化符合Hall-Petch关系;当调制波长小于100 nm时,显微硬度开始下降.X射线衍射表明,膜层中存在压应力,Ni层形成了强(100)织构.
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| 关 键 词： | 铜 镍 纳米多层膜 脉冲电沉积 单槽 显微硬度 应力 |
Preparation of nanoscale copper/nickel multilayered coating by pulsed electrodeposition in a single bath and its properties |
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| ZHU Hong-xi , GU Chao , REN Feng-zhang. Preparation of nanoscale copper/nickel multilayered coating by pulsed electrodeposition in a single bath and its properties[J]. Electroplating & Finishing, 2012, 31(10): 7-10. DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2012.10.002 |
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| Authors: | ZHU Hong-xi GU Chao REN Feng-zhang |
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