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HfO2薄膜的亲疏水性对石墨烯沉积的影响
作者姓名:樊瑞祥  王伟  刘姗  杨玉帅  王凯
作者单位:1. 河北工业大学电子信息工程学院;2. 天津市电子材料与器件重点实验室
基金项目:河北省自然科学基金(F2019202377);
摘    要:研究了在不同表面润湿性的HfO2薄膜上沉积石墨烯的质量,判断了不同表面能大小碳原子的沉积方向。采用电子束工艺制备不同生长时间的HfO2薄膜,经过静态接触角测量可知,所有HfO2薄膜均为疏水性,且随着薄膜厚度的增加,表面疏水性加强。再通过等离子体化学气相沉积工艺在HfO2样品表面制备石墨烯薄膜。通过拉曼测试得出,表面中性润湿性基底对于碳沉积密度贡献不大;表面微疏水性基底对于碳原子总沉积量增益不大,但是对于形成sp2轨道的碳碳双键则增强明显,原因主要是由于碳原子在表面横向迁移的作用增强,从而形成大面积石墨烯薄膜。

关 键 词:HfO2薄膜  石墨烯  掠入射X射线衍射  表面接触角  等离子体化学气相沉积
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