| 微波等离子体化学气相沉积工艺对透明金刚石膜质量的影响 |
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| 引用本文： | 周健,余卫华,汪建华,袁润章. 微波等离子体化学气相沉积工艺对透明金刚石膜质量的影响[J]. 硅酸盐学报, 2000, 28(5): 445-449 |
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| 作者姓名： | 周健 余卫华 汪建华 袁润章 |
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| 作者单位： | 武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 湖北省武汉市青年科技晨光计划，湖北省自然科学基金，20005004034，99J070，， |
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| 摘 要： | 在自制的２４５０ＭＨｚ／５ｋＷ不锈钢谐振空型微波等离子体学气相沉积装置中研究了基片预处理和工艺参数对微波等离子体化学气相沉积金刚石膜质量的影响，研究了提高成核密度和沉积速率的方法，用ＳＥＭ，ＸＲＤ，ＦＴＩＲ，Ｒａｍａｎ和ＡＦＭ分析了金刚石膜的质量，结果表明：用纳米金刚石粉研磨单晶基片，在沉积气压６．０ｋＰａ，ＣＨ４／Ｈ２的体积流量比为０．７５％时，可 出红外透光率达６８％，表面粗糙度为１１４．１０
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| 关 键 词： | 透明金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 |
| 修稿时间： | : |
EFFECTS OF MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TECHNOLOGY ON QUALITY OF TRANSPARENT DIAMOND FILM |
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| Zhou Jian,Yu Weihua,Wang Jianhua,Yuan Runzhang. EFFECTS OF MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TECHNOLOGY ON QUALITY OF TRANSPARENT DIAMOND FILM[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2000, 28(5): 445-449 |
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| Authors: | Zhou Jian Yu Weihua Wang Jianhua Yuan Runzhang |
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| Keywords: | transparent diamond film microwave plasma chemical vapor deposition single crystal silicon substrate |
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