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2~4 μm中红外锑化物半导体激光器研究进展(特邀)
引用本文:杨成奥,张一,尚金铭,陈益航,王天放,佟海保,任正伟,张宇,徐应强,牛智川.2~4 μm中红外锑化物半导体激光器研究进展(特邀)[J].红外与激光工程,2020,49(12):20201075-1-20201075-9.
作者姓名:杨成奥  张一  尚金铭  陈益航  王天放  佟海保  任正伟  张宇  徐应强  牛智川
作者单位:1.中国科学院半导体研究所 半导体超晶格国家重点实验室 北京 100083
基金项目:广东省重点研发计划;国家自然科学基金
摘    要:2~4 μm波段是非常重要的红外大气窗口,工作在这个波段的激光器在气体检测,医疗美容和工业加工领域具有十分巨大的应用价值。锑化物半导体材料低维结构具有窄禁带直接跃迁发光的独特优势,是实现中红外波段半导体激光器的理想材料体系。近年来,国内外锑化物半导体激光器研究不断取得重要进展,先后实现了量子阱发光的波长拓展、大功率单管和阵列激光器的室温连续激射,也实现了多波段的单模激光器的室温连续工作。锑化物半导体低维材料组分复杂、界面钝化性质特殊,材料外延和工艺制备技术难度较大。文中从锑化物半导体激光器的基本原理出发,综述了国内外研究现状,介绍了锑化物材料低维结构激光器的设计方案、关键制备技术的主要进展,分析了今后该类激光器性能优化的重点研发方向等。

关 键 词:锑化镓    量子阱半导体激光器    红外激光器
收稿时间:2020-10-26
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