|
|||||
|
|
| 氧化钨电致变色薄膜的XPS分析 | |
| 引用本文： | 李海霞,唐武,翁小龙,邓龙江,孔占兴.氧化钨电致变色薄膜的XPS分析[J].稀有金属材料与工程,2008,37(7). |
| 作者姓名： | 李海霞 唐武 翁小龙 邓龙江 孔占兴 |
| 作者单位： | 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射工艺,在柔性PET衬底上低温制备电致变色WOx/ITO/PET多层薄膜;利用X射线光电子能谱(XPS)分析所制备薄膜的着、退色态中W元素的价态以及O元素的化合环境.结果表明:WOx薄膜着色态中存在W6 和W5 的混合价态,而在退色态中W元素的化合价仅为W6 ;钨离子的不同价态和氧离子的不同化合环境的变化与WOx薄膜的电致变色机制密切相关. |
| 关 键 词： | WOx薄膜 电致变色 磁控溅射 |
XPS Analyses on WOx Electrochromic Films |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |