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自排列栅的平面肖特基势垒场效应晶体管
作者姓名:F.H.杜尔贝克,行军
作者单位:得克萨斯仪器公司(F.H.杜尔贝克)
摘    要:讨论了串联电阻对伏安特性的影响。用质子轰击制作平面砷化镓场效应晶体管,避免了表面不平整给柯达光致抗蚀剂带来的问题。用自排列栅技术得到5微米栅的器件。由于尚不能控制腐蚀,妨碍了用本工艺制出更小的器件。

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