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| 氧化锌薄膜制备技术的评价 | |
| 引用本文： | 刘坤,季振国. 氧化锌薄膜制备技术的评价[J]. 真空科学与技术学报, 2002, 22(4): 282-286 |
| 作者姓名： | 刘坤 季振国 |
| 作者单位： | 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究专项 (973 )资助项目 (No .G2 0 0 0 0 683 0 6) |
| 摘 要： | 详细介绍了各种制备氧化锌薄膜的方法 ,包括磁控溅射法、化学气相沉积法、喷雾热解法、溶胶凝胶法、激光脉冲沉积法、分子束外延法、原子层外延生长法。阐述了这些方法的机理、沉积条件、所需的反应物以及制得的薄膜的性质。讨论并比较了各种方法的优缺点和应用于器件及工业生产的可能性 |
| 关 键 词： | 氧化锌 薄膜 制备技术 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)04-0282-05 |
| 修稿时间： | 2001-11-26 |
Review of ZnO Thin Film Growth Technology |
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| Liu Kun,Ji Zhenguo. Review of ZnO Thin Film Growth Technology[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2002, 22(4): 282-286 | |
| Authors: | Liu Kun Ji Zhenguo |
| Abstract: | Various growth techniques of ZnO thin films,including magnetro sputtering,chemical vapor deposition,spray pyrolysis,sol gel processing,pulsed laser deposition,molecular beam epitaxy,atomic layer epitaxy and metal organic chemical vapor deposition were reviewed.The discussion includes the operating principles,film growth conditions,reactants required and properties of the ZnO films grown by different growth techniques,together with their strengths and weaknesses. |
| Keywords: | ZnO Thin film Preparation |
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