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P型半导体金刚石膜的磁阻
引用本文:孔春阳,王万录,廖克俊,王蜀霞,方亮,马勇.P型半导体金刚石膜的磁阻[J].功能材料与器件学报,2001,7(3):248-252.
作者姓名:孔春阳  王万录  廖克俊  王蜀霞  方亮  马勇
作者单位:1. 重庆大学理学院应用物理系,
2. 重庆师范学院物理系,
基金项目:National Natural Science Foundation of China(No.19904016).
摘    要:研究了p-型异质外延和同质金刚石膜的在不同温度和磁场下的磁阻,磁阻器件的结构为条形和圆盘形,实验结果表明磁阻强烈依赖于磁场、温度和样品的几何形状,圆盘结构的磁阻大于条形结构,条形结构的磁阻还取决于不同的长-宽比。利用F-S薄膜理论,计算磁场为5T时条形和圆盘结构的磁阻分别为0.38和0.74,讨论了霍耳效应对磁阻的影响。给出了形状效应的可能机制。

关 键 词:磁阻  金刚石膜  形状效应  电导率
文章编号:1007-4252(2001)03-0248-05
修稿时间:2000年10月18
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