| 铁氰酸镍修饰的过氧化氢电化学传感器的研究 |
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| 引用本文： | 李春香,阳明辉,沈国励,俞汝勤.铁氰酸镍修饰的过氧化氢电化学传感器的研究[J].化学传感器,2003,23(2):9-17. |
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| 作者姓名： | 李春香 阳明辉 沈国励 俞汝勤 |
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| 作者单位： | 化学生物传感与计量学国家重点实验室,化学化工学院,湖南大学,长沙,410082 |
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| 摘 要： | 该文提出了一种新的过氧化氢电化学传感器的制备方法.利用循环伏安法,在金电极表面电化学沉积一层铁氰酸镍膜(NiHCF),在一定电位条件下,它能催化还原过氧化氢,其响应电流与过氧化氢的浓度呈线性关系.经Nafion修饰后的铁氰酸镍膜性能稳定,能排除多种物质对过氧化氢的干扰.用循环伏安法探讨了Ni、Co和Cu的三种铁氰酸盐修饰电极的性能及电化学特性,并研究了各种实验条件对过氧化氢传感器性能的影响.该传感器制作简单,使用寿命长,在实际试样的回收率测定中,结果满意.
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| 关 键 词： | 铁氰酸镍膜 膜 循环伏安法 电化学沉积 |
Study of nickel hexacyanoferrate modified hydrogen peroxide electrochemical sensor |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Nafion |
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