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| 一种新型接触式双面对版曝光机 | |
| 引用本文： | 武世香,邹斌.一种新型接触式双面对版曝光机[J].电子工业专用设备,1994,23(2):48-51,25. |
| 作者姓名： | 武世香 邹斌 |
| 作者单位： | 哈尔滨工业大学 |
| 摘 要： | 本文介绍一种新型双面对版曝光机。该机由传统的单面曝光机改装而成，结构简单，工作原理新颖，操作简便，能方便地在任意中间工序实现晶片定向和双面图形对准曝光。双面图形对准偏差可控制在±１０μｍ以内。本文并分析比较了各种双面对版曝光设备和技术特点。 |
| 关 键 词： | 双面对版，接触式曝光，掩模版 |
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