| 热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 吕博嘉,刘艳红,刘东平,刘爱民,刘韶华,马腾才. 热丝CVD制备微晶硅薄膜的研究[J]. 真空, 2008, 45(1): 48-50 |
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| 作者姓名： | 吕博嘉 刘艳红 刘东平 刘爱民 刘韶华 马腾才 |
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| 作者单位： | 1. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
2. 大连民族学院理学院,辽宁,大连,116600 |
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| 摘 要： | 采用热丝化学气相沉积技术制备微晶硅薄膜，利用X射线衍射谱、Raman散射谱、透射光谱和扫描电子显微镜等检测手段，系统地研究沉积过程中沉积气压对微晶硅薄膜晶粒尺寸、晶态比和光学带隙的影响，运用Tacu法则对薄膜的透射率和厚度进行计算分析，得到薄膜光学带隙与沉积气压之间的关系，结果表明薄膜的光学带隙随着沉积气压的升高而单调下降。
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| 关 键 词： | 热丝化学气相沉积 微晶硅薄膜 光学带隙 热丝 微晶硅薄膜 研究 HWCVD silicon films properties 单调下降 结果 关系 计算分析 厚度 透射率 法则 运用 影响 光学带隙 晶态比 晶粒尺寸 沉积气压 沉积过程 |
| 文章编号： | 1002-0322（2008）01-0048-03 |
| 收稿时间： | 2007-08-03 |
| 修稿时间： | 2007-08-03 |
Study on the properties of microcrystalline silicon films prepared by HWCVD |
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| LU Bo-jia,LIU Yan-hong,LIU Dong-ping,LIU Ai-min,LIU Shao-hua,MA Teng-cai. Study on the properties of microcrystalline silicon films prepared by HWCVD[J]. Vacuum(China), 2008, 45(1): 48-50 |
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| Authors: | LU Bo-jia LIU Yan-hong LIU Dong-ping LIU Ai-min LIU Shao-hua MA Teng-cai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HWCVD microcrystalline silicon thin film optical band gap |
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