| 中频磁控溅射沉积DLC/TiAlN复合薄膜的结构与性能研究 |
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| 引用本文： | 张以忱,巴德纯,于大洋,马胜歌.中频磁控溅射沉积DLC/TiAlN复合薄膜的结构与性能研究[J].真空科学与技术学报,2008,28(5). |
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| 作者姓名： | 张以忱 巴德纯 于大洋 马胜歌 |
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| 作者单位： | 1. 东北大学机械工程与自动化学院,沈阳,110004
2. 深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,深圳,518029 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DIE/TiAlN复合薄膜.利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、显微硬度计、摩擦磨损仪等分析检测仪器对DLC/TiAlN复合薄膜的表面形貌、晶体结构、显微硬度、耐磨性等性能进行了检测分析.实验及分析结果表明:DLC/TrAlN薄膜平均膜厚为1.1μm,由于薄膜中的Al含量较多,使得复合薄膜的表面比DLC薄膜的表面要粗糙一些;通过对复合薄膜表层的XPS分析可知,ID/IG为2.63.由XPS深层剖析可知,DLC/TiAlN薄膜表层结构与DLC薄膜基本相同,里层则与TiAlN薄膜相似.在梯度过渡膜中,复合膜层之间的界面呈现为渐变过程,结合的非常好.DLC/TiAlN薄膜的显微硬度为2030 HV左右.与DLC薄膜显微硬度接近,低于TiAlN薄膜的显微硬度.但是DLC/TiAlN薄膜的耐磨性要好于TiAlN薄膜和DLC薄膜;DLC/TiAlN薄膜的耐腐蚀性能略好于DLC薄膜.
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| 关 键 词： | TiAlN薄膜 DLC薄膜 非平衡磁控溅射 中频溅射 等离子辅助沉积 |
Microstructures and Properties of Diamond-Like Carbon/TiAlN Composite Films by MF Magnetron Sputtering |
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