| 氢还原氢氟酸刻蚀的TiO2纳米薄膜光电化学性能 |
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| 引用本文： | 于濂清,杨钱龙,朱海丰,段丽杰,赵兴雨,王艳坤.氢还原氢氟酸刻蚀的TiO2纳米薄膜光电化学性能[J].材料导报,2021,35(20):20001-20004. |
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| 作者姓名： | 于濂清 杨钱龙 朱海丰 段丽杰 赵兴雨 王艳坤 |
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| 作者单位： | 中国石油大学(华东)材料科学与工程学院,青岛 266580;中国石油大学(华东)理学院,青岛 266580 |
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| 摘 要： | TiO2是一种价格低廉、稳定的半导体材料,被广泛应用于光催化水裂解、污水处理等众多领域,但其只能吸收高能量的紫外光,限制了实际应用.本工作采用氢氟酸溶液刻蚀纯钛片,然后在一系列温度下对其进行热处理,使其表面与氧气反应生成TiO2薄膜,随后将样品置于氢气气氛下进行还原处理.通过XRD对其进行物相表征,SEM观察微观形貌,利用电化学工作站测试样品的光响应曲线、线性扫描伏安曲线以及电化学阻抗谱,并根据线性扫描伏安曲线计算出样品的光转换效率.结果表明,经过HF处理后,所形成的TiO2纳米薄膜暴露(101)晶面.同时,经过HF处理和氢气还原制备的样品的光电性能有了较大提升,光电流密度最高可达1.04 mA/cm2,是未经HF处理和氢气还原薄膜的11.5倍,是仅经HF处理薄膜的2.97倍,最大光转换效率提升了70％.该方法制备的纳米薄膜材料在光催化降解、产氢等领域具有潜在的应用价值.
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| 关 键 词： | 二氧化钛 氢氟酸处理 氢气还原 光电化学性能 |
Photoelectrochemical Properties of Hydrogen Reduced TiO2 Film by HF Corrosion |
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| YU Lianqing,YANG Qianlong,ZHU Haifeng,DUAN Lijie,ZHAO Xingyu,WANG Yankun.Photoelectrochemical Properties of Hydrogen Reduced TiO2 Film by HF Corrosion[J].Materials Review,2021,35(20):20001-20004. |
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| Authors: | YU Lianqing YANG Qianlong ZHU Haifeng DUAN Lijie ZHAO Xingyu WANG Yankun |
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