| 微波等离子体化学气相沉积法制备C_3N_4薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 张永平,顾有松,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊. 微波等离子体化学气相沉积法制备C_3N_4薄膜的研究[J]. 真空电子技术, 2000, 0(1) |
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| 作者姓名： | 张永平 顾有松 常香荣 田中卓 时东霞 张秀芳 袁磊 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系!北京100083(张永平，顾有松，常香荣，田中卓)，中国科学院北京真空物理实验室!北京100080(时东霞，张秀芳，袁磊) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助课题! ( 19674 0 0 9) |
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| 摘 要： | 本文采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),高纯N2(99.999%)和CH4(99.9%)作反应气体,在多晶Pt(99.99%)基片上沉积C3N4薄膜。X-射线能谱(EDX)分析结果表明N/C原子比为1.0～1.4,接近C3N4的化学比;X射线衍射谱说明薄膜主要由β和α-C3N4组成;FT-IR谱和Raman谱支持C-N键的存在。
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| 关 键 词： | 微波等离子体化学气相沉积 β-C_3N_4 薄膜 超硬材料 |
Studies of C_3N_4 Thin Films Prepared by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition |
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| ZHANG Yong ping ,GU You song ,CHANG Xiang rong ,TIAN Zhong zhuo ,SHI Dong xia ,ZHANG Xiu fang ,YUAN Lei. Studies of C_3N_4 Thin Films Prepared by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition[J]. Vacuum Electronics, 2000, 0(1) |
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| Authors: | ZHANG Yong ping GU You song CHANG Xiang rong TIAN Zhong zhuo SHI Dong xia ZHANG Xiu fang YUAN Lei |
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| Affiliation: | ZHANG Yong ping 1,GU You song 1,CHANG Xiang rong 1,TIAN Zhong zhuo 1,SHI Dong xia 2,ZHANG Xiu fang 2,YUAN Lei 2 |
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