|
|||||
|
|
| 热壁LPCVD多晶硅薄膜的制备及其应用 | |
| 作者姓名： | 程开富 |
| 作者单位： | 重庆光电技术研究所 |
| 摘 要： | 论述了热壁低压化学汽相渡积（ＬＰＣＶＤ）制备多晶硅薄膜的淀积变量，是影响膜层质量的因素。其次简述了热壁ＬＰＣＶＤ薄膜在硅ＣＣＤ多路传输器和硅ＣＣＤ多路开关组件等红外信号处理器件研制中的应用。 |
| 关 键 词： | 热壁LPCVD，多晶硅，硅CCD多路传输器，红外信号处理，硅CCD多路开关组件 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |