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| 用放射性同位素技术测量PVD沉积层的厚度 | |
| 引用本文： | 李健.用放射性同位素技术测量PVD沉积层的厚度[J].材料保护,1990(4). |
| 作者姓名： | 李健 |
| 作者单位： | 武汉材料保护研究所 430030 |
| 摘 要： | 在表面保护和表面装饰等领域中,表面金属物理气相沉积(PVD)层的厚度一般为若干纳米至若干微米,所沉积的质量及其厚度是一个重要的技术参数。由于PVD新技术的迅速发展,现有的许多分析测量方法如:触针测量法、电镜照像测量法、X-射线法等等和工程测量方法(如:沉积速率计算法,石英晶体测量法等)已难以精确地测出极薄的PVD沉积层厚度。放射性同位素测量是一门较成熟的测量技术,灵敏度和精度极高,在一定程度上能解决这一问题,可定量而精确地测出 |
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