| 低温退火对电沉积纳米晶Ni镀层耐蚀性的影响 |
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| 引用本文： | 陈闪闪,戴品强,郑贞,洪永志. 低温退火对电沉积纳米晶Ni镀层耐蚀性的影响[J]. 材料科学与工程学报, 2009, 0(4) |
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| 作者姓名： | 陈闪闪 戴品强 郑贞 洪永志 |
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| 作者单位： | 福州大学材料科学与工程学院; |
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| 基金项目： | 福建省自然科学基金资助项目(E0810006); 福州大学创新团队资助项目 |
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| 摘 要： | 通过脉冲电沉积方法制备纳米晶Ni镀层。采用浸泡法和电化学方法研究了不同温度低温退火纳米晶Ni镀层在3.5wt.%NaCl和5wt.%HCl溶液中的腐蚀行为。结果表明:150℃以下退火,晶粒未出现明显长大。在3.5wt.%NaCl溶液中,镀层耐蚀性随退火温度的升高而提高;200℃退火后镀层的耐蚀性最好,镀层表面均有钝化现象。在5wt.%HCl溶液中,退火后镀层的耐蚀性有所提高,但退火温度的影响不大,镀层腐蚀过程中未观察到钝化现象。
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| 关 键 词： | 脉冲电沉积 纳米晶Ni 低温退火 耐蚀性 |
Effects of Low Temperature Annealing on the Corrosion Resistance of Pulse Electrodeposited Nanocrystalline Ni Coatings |
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| CHEN Shan-shan,DAI Pin-qiang,ZHENG Zhen,HONG Yong-zhi. Effects of Low Temperature Annealing on the Corrosion Resistance of Pulse Electrodeposited Nanocrystalline Ni Coatings[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2009, 0(4) |
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| Authors: | CHEN Shan-shan DAI Pin-qiang ZHENG Zhen HONG Yong-zhi |
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| Affiliation: | CHEN Shan-shan,DAI Pin-qiang,ZHENG Zhen,HONG Yong-zhi(College of Materials Science , Engineering,Fuzhou University,Fuzhou 350108,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulse electrodeposition nanocrystalline Ni low temperature annealing corrosion resistance |
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