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热铁盘法抛光CVD金刚石的微观表面研究
引用本文:马泳涛,张建立,李钝,马胜钢. 热铁盘法抛光CVD金刚石的微观表面研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2008, 0(4)
作者姓名:马泳涛  张建立  李钝  马胜钢
作者单位:1. 郑州大学机械工程学院,450001,郑州
2. 郑州大学信息工程学院,450001,郑州
摘    要:用原子力显微镜对热铁盘法抛光CVD金刚石达到Ra0.016 μm的表面进行观察.在微观表面重现的基础上,对不同方向的表面粗糙度进行探测.发现抛光后的金刚石表面的粗糙度呈现出一定的方向性,最大粗糙度和最小粗糙度方向,两个方向相互垂直.三维形貌图显示,金刚石表面存在较少数量的由点到凸峰,且较大凸峰的高度在50~60 nm之间,是较小凸峰高度的2~3倍.影响表面粗糙度值的因素不仅有表面凸峰的高度,还应考虑表面凸峰的数量和方向性.这种表面特征与抛光时采用的直压式运动方式有着直接联系.

关 键 词:热铁盘法  CVD金刚石  抛光  微观表面

Study on micro surfaces of CVD diamond polished by hot metal plate
Ma Yongtao,Zhan Jianli,Li Dun,Ma Shenggang. Study on micro surfaces of CVD diamond polished by hot metal plate[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2008, 0(4)
Authors:Ma Yongtao  Zhan Jianli  Li Dun  Ma Shenggang
Abstract:
Keywords:
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